روشی برای تولید مستقیم نانوحفره با قطر کمتر از ده نانومتر

دانشمندان روش جدیدی برای ساخت مستقیم نانوحفره زیر ۱۰ نانومتر در نانوورق‌های WO۳ ارائه کردند. این کار با استفاده از یون‌های سنگین و سریع انجام می‌شود. ساخت نانوحفره‌های حالت جامد با کیفیت بالا برای کاربردهای تشخیص مولکول منفرد، دستگاه‌های نانوفلوئیدی و غشاهای نانوالتر از اهمیت زیادی برخوردار است. محبوب‌ترین روش برای ساخت نانوحفره در فیلم‌های معدنی مانند SiN، SiO۲ و Al۲O۳ استفاده از یون یا پرتو الکترونی متمرکز است. با این حال، سیستم بازخورد یا تصویربرداری مستقیم مورد نیاز است و با این کار فقط یک نانوحفره واحد را می‌توان در یک زمان ساخت، که تولید انبوه را محدود می‌کند. بنابراین، لازم است که روش جدیدی ابداع شود که می‌تواند نانوحفره‌های قابل کنترل از نظر اندازه و چگالی ایجاد کند، بدون این که به هیچ‌گونه سیستم بازخوردی نیاز باشد. با استفاده از امکانات مرکز تحقیقاتی یون سنگین در لانژو (HIRFL)، دانشمندان از تابش یون‌های سنگین سریع، برای تولید نانوحفره روی WO۳ استفاده کردند. این روش جدید تولید نانوحفره، که شامل هیچ فرآیند اچینگ شیمیایی نیست، پتانسیل ویژه‌ای برای کاربردهای گسترده دارد. این کار راه را برای ساخت نانوذرات حالت جامد در مواد با ویسکوزیته کم و تنش سطحی با استفاده از یون‌های سنگین سریع هموار می‌کند.